Второе поколение 10-нм FinFET техпроцесса от Samsung почти готово к производству

Первое поколение чипов с техпроцессом 10 нм от Samsung (10LPE — Low Power Early) будет заменено улучшенной технологией второго поколения 10LPP (Low Power Plus), поскольку компания заявила о завершении процедуры квалификации новой 10-нм технологии со структурой FinFET.

Samsung близка к началу производства новых чипов, которые обеспечат прирост производительности до 10% и до 15% снизят энергопотребление, по сравнению с техпроцессом первого поколения 10LPE.

Недавно компания начала устанавливать технологическое оборудование на своей новейшей производственной линии S3 в Хвасоне (Южная Корея), чтобы удовлетворить долгосрочный спрос на 10-нм техпроцесс. Ожидается, что новая линия будет готова к производству в четвертом квартале этого года.

comments powered by HyperComments
DirectAdvert